MKY-SD-900M 磁控濺射儀

原理：

在磁控濺射中，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動，其運(yùn)動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。

技術(shù)參數(shù)：

主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（標(biāo)配）

樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm

真空指示表：高真空度：≤ 4X10-2mbar

離子電流表：大電流：100mA

定時器：長時間：0-360S

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體：多種

高電壓： -1600DCV

機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8）

用途：適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實驗電極制作。

特點：

1、經(jīng)濟(jì)、外觀精美。

2、成膜速

3、基片溫度低。

4、膜的粘附性好。

5、可實現(xiàn)大面積鍍膜。

6、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

7、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

8、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。

MKY-SD-900M 磁控濺射儀